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在線咨詢聯系我們S200ml全(quan)透明高(gao)(gao)壓(ya)反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)釜(fu)耐壓(ya)力,全(quan)體積可(ke)視(shi)(shi)。世紀(ji)森朗是國(guo)內把Sapphire晶(jing)體應(ying)用(yong)(yong)到高(gao)(gao)壓(ya)反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)釜(fu)上實(shi)現高(gao)(gao)壓(ya)可(ke)視(shi)(shi)反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying),北京(jing)世紀(ji)森朗藍寶石可(ke)視(shi)(shi)高(gao)(gao)壓(ya)反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)釜(fu)分為全(quan)透明可(ke)視(shi)(shi)高(gao)(gao)壓(ya)反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)釜(fu),用(yong)(yong)于(yu)反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)可(ke)視(shi)(shi)研究、取樣分析、多相(xiang)相(xiang)行為觀(guan)(guan)察、超臨界微粒制(zhi)備的噴(pen)霧觀(guan)(guan)察、熱力學性質(zhi)研究、長時(shi)間溶解過程觀(guan)(guan)測(ce)等。應(ying)用(yong)(yong)于(yu)各(ge)種催化反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)、CO2超臨界反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)、加氫反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)、光(guang)催化、光(guang)電催化、氣液兩相(xiang)、液液兩相(xiang)、放熱反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)、新(xin)材料(liao)測(ce)試(shi)、腐蝕性測(ce)試(shi)、相(xiang)平衡(heng)實(shi)驗、超臨界反(fan)(fan)(fan)(fan)應(ying)、催化劑評價和發展等應(ying)用(yong)(yong)。
Sapphire全透明藍(lan)寶石高壓反應(ying)釜(fu)技術參數(shu):
型(xing) 號 | S200 |
容 積 | 200ml |
類(lei) 型 | 臺式,全透明Sapphire晶體,360度可視(shi) |
工(gong)作溫度(du) | 150℃ |
加 熱 方 式 | 雙夾套控溫系統或模塊電加熱(re)系統 |
結 構 方(fang) 式(shi) | 卡環快拆(chai)卸 |
攪 拌(ban) 速(su) 度(du) | 0-1200rpm |
攪 拌 方 式 | 內(nei)部磁力攪(jiao)拌、軟軸機械攪(jiao)拌或(huo)直聯(lian)機械攪(jiao)拌 |
工 作 壓 力(li) | 標配10Mpa(可(ke)工作30Mpa) |
結 構(gou) 材 質(zhi) | 316L不銹鋼,反應室為Sapphire晶體 |
AutoChem V1.06 | |
MRSC控(kong)制系(xi)統(tong) | ES V1.06 |
LightChem V1.06 |
S200ml全透明高壓反應(ying)釜Sapphire主要特點及應(ying)用:
1. 耐(nai)磨、高硬度、耐(nai)腐(fu)蝕、摩擦系數(shu)小,是精密儀表機械軸承的理想材料;
2. 透光性能(neng)優(you)良,因此也是儀器選擇的(de)材料;
3. 高(gao)(gao)強度、耐腐蝕、高(gao)(gao)熱導(dao)(dao)率、高(gao)(gao)熱導(dao)(dao)率、高(gao)(gao)透光(guang)(guang)特性及寬透光(guang)(guang)波(bo)段(從(cong)近紫外到7um中(zhong)紅外波(bo)段),是理想的窗口材料和光(guang)(guang)學元件材料;
4. 電絕緣性(xing)能優良,六方對稱結構(gou),化學性(xing)能穩定,是極好的半導體(ti)、超導襯底材料(漏(lou)電容和寄生電容小);
5. 藍寶石C面(mian)與(yu)Ⅲ-Ⅴ和Ⅱ-Ⅵ族沉(chen)積薄膜之間的晶格常數失配率(lv)小(與(yu)GaN之間失配主要的外延基片材料。
鑄就實驗室反(fan)應(ying)(ying)釜主流影響力(li),助力(li)中國科(ke)研事業發展。世紀(ji)森朗擁有著十多年微型高壓反(fan)應(ying)(ying)釜加(jia)工技(ji)術(shu)經(jing)驗和反(fan)應(ying)(ying)設(she)備(bei)核心技(ji)術(shu),可(ke)為(wei)用戶定(ding)制加(jia)工適(shi)應(ying)(ying)不同實驗體系的(de)反(fan)應(ying)(ying)設(she)備(bei),并保證其安(an)全、穩定(ding)、操作簡便。